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XRD專用研磨儀McCrone

XRD專用研磨儀McCrone

XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。

XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有獨(dú)特的研磨方式:研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時(shí)間短,幾乎沒(méi)有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。晶格在研磨過(guò)程中幾乎完全保留。  
研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐,配一個(gè)無(wú)墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿,材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。最佳的磨時(shí)間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。

應(yīng)用實(shí)例

硼化物, 黏土, 云母, 氮化物, 石板, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭

優(yōu)點(diǎn)

研磨過(guò)程中晶格被保留

粒徑分布窄

幾乎沒(méi)有交叉污染

緊湊、桌面型機(jī)型

可調(diào)研磨功率(4)

適合于干磨和濕磨

清洗方便

免維護(hù)

運(yùn)行安靜

作用原理

XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。在運(yùn)行過(guò)程中,罐子做圓周運(yùn)動(dòng),研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平(通常小于10 um)。由于研磨過(guò)程很溫和,所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的最佳選擇。

應(yīng)用

搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨

應(yīng)用領(lǐng)域

X-ray 衍射

樣品特征

中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的

最大進(jìn)樣尺寸

<0.5毫米

最終出料粒度 *

< 1 μm

網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速

1,000 - 1,500 min-1 4

研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù))

1

典型粉碎時(shí)間

3 - 30 min

干磨

濕磨

低溫研磨

-

研磨套件材料:

瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石

研磨罐尺寸

125 ml

粉碎時(shí)間設(shè)定

數(shù)字顯示,00:00:01 99:59:50

驅(qū)動(dòng)

DC-Motor

驅(qū)動(dòng)功率

50W

電源數(shù)據(jù):

220-240 V, 50/60 Hz

電源接頭:

單相

防護(hù)類型

IP 30

接受功率

100W

機(jī)體尺寸(寬xx縱深)

205 x 155 x 520 mm

凈重

~19 kg

標(biāo)準(zhǔn)

CE

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