XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有獨(dú)特的研磨方式:研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時(shí)間短,幾乎沒(méi)有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。晶格在研磨過(guò)程中幾乎完全保留。
研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐,配一個(gè)無(wú)墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿,材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。最佳的磨時(shí)間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
應(yīng)用實(shí)例
硼化物, 黏土, 云母, 氮化物, 石板, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
優(yōu)點(diǎn)
研磨過(guò)程中晶格被保留
粒徑分布窄
幾乎沒(méi)有交叉污染
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨
清洗方便
免維護(hù)
運(yùn)行安靜
作用原理
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。在運(yùn)行過(guò)程中,罐子做圓周運(yùn)動(dòng),研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平(通常小于10 um)。由于研磨過(guò)程很溫和,所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的最佳選擇。
應(yīng)用 |
搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨 |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
X-ray 衍射 |
樣品特征 |
中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 |
最大進(jìn)樣尺寸 |
<0.5毫米 |
最終出料粒度 * |
< 1 μm |
網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速 |
1,000 - 1,500 min-1 4步 |
研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) |
1 |
典型粉碎時(shí)間 |
3 - 30 min |
干磨 |
是 |
濕磨 |
是 |
低溫研磨 |
- |
研磨套件材料: |
瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 |
研磨罐尺寸 |
125 ml |
粉碎時(shí)間設(shè)定 |
數(shù)字顯示,00:00:01 至 99:59:50 |
驅(qū)動(dòng) |
DC-Motor |
驅(qū)動(dòng)功率 |
50W |
電源數(shù)據(jù): |
220-240 V, 50/60 Hz |
電源接頭: |
單相 |
防護(hù)類型 |
IP 30 |
接受功率 |
100W |
機(jī)體尺寸(寬x高x縱深) |
205 x 155 x 520 mm |
凈重 |
~19 kg |
標(biāo)準(zhǔn) |
CE |
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